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根据表面物理化学性质分析，装惊经真空外光辅助沉积的PDA涂层表面形貌平整，表面粗糙度随着沉积时间的增加而增大。这些结果表明，场济真空紫外光辅助沉积的PDA涂层的优势在于避免了Zn基体的初始腐蚀，并与外部PLGA涂层提供了强大的附着力。南1女2021年7月获新加坡国立大学国家公派留学奖学金。

目前担任中国机械学会焊接分会青年委员会、学生电子封装国际会议(ICEPT)技术委员会等多个学术组织的委员，IEEE高级会员(SeniorMember)。获轮滑全图4.Zn,Zn/UVPDA,Zn/PLGA,Zn/UVPDA/PLGA长期浸泡测试分析（a)SEM图像。

图8.本论文入选ACS-AMI期刊封面图片【第一作者介绍】方慧，国冠哈尔滨工业大学材料科学与工程学院博士研究生。

与纯Zn样品相比，身艳全UVPDA/PLGA涂层在不同样品的不同浓度提取物培养基中培养24小时和72小时后，对SMCs增殖表现出明显的抑制作用(图6a-c)。敦煌关于基于CNN的适应度函数选择的详细讨论可以在补充材料中找到。

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场济图4(B和C)分别显示了在上一代中获得的QC12的代表性照片及其衍射图。本文还获得了具有代表性的QCs照片，南1女其衍射花样如图3(D至F)所示。